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第一步：鋁箔的腐蝕：

為了增大鋁箔和電解質(zhì)的接觸面積，電容中的鋁箔的表面并不是光滑的，而是經(jīng)過(guò)電化腐蝕法，使其表面形成凹凸不平的形狀，這樣能夠增大7~8倍的表面積。電化腐蝕的工藝是比較復(fù)雜的，其中涉及到腐蝕液的種類(lèi)、濃度、鋁箔的表面狀態(tài)、腐蝕的速度、電壓的動(dòng)態(tài)平衡等等。我們國(guó)家目前在這方面的制造工藝還不夠成熟，因此用于制造電容的經(jīng)過(guò)電化腐蝕的鋁箔目前還主要依賴(lài)進(jìn)口。

第二步：氧化膜形成工藝：

鋁箔經(jīng)過(guò)電化腐蝕后，就要使用化學(xué)辦法，將其表面氧化成三氧化二鋁——也就是鋁電解電容的介質(zhì)。在氧化之后，要仔細(xì)檢查三氧化二鋁的表面，看是否有斑點(diǎn)或者龜裂，將不合格的排除在外。

第三步：鋁箔的切割：

這個(gè)步驟很容易理解。就是把一整塊鋁箔，切割成若干小塊，使其適合電容制造的需要。

第四步：引線的鉚接：

電容外部的引腳并不是直接連到電容內(nèi)部，而是通過(guò)內(nèi)引線與電容內(nèi)部連接的。

第五步：電解紙的卷繞：

電容中的電解液并非直接灌進(jìn)電容，呈液態(tài)浸泡住鋁箔，而是通過(guò)吸附了電解液的電解紙與鋁箔層層貼合。